“很厉害，短短一天时间不到就掌握了。”
包仲文看著李观说道，心中泛起异样的情绪，这么好的苗子搞数学可惜了。
“老沈跟我说了是你强烈要求过来进我的课题组的，我能问问是什么原因吗？”
包仲文见李观有些犹豫，接著说道：“你跟老沈那个搞理论的说不清楚，你跟我说，我全力给你提供帮助。”
听到这，李观心中终於做好了决定。
不要看李观轻轻鬆鬆就进了包仲文的课题组，其实他的课题组的保密级別是相当高的，虽然技术暂时还落后於世界。
並且就算mos?电晶体研发出来，也还需要专业的人士不断地推进，不断地叠代技术使之能一直保持世界领先地位，这样才能完成真正的崛起。
全靠自己一人，怕真是智商欠费了。
“我想试著做一种新的电晶体，之前是在外国期刊上看到的，直觉告诉我它很有潜力，当然在製备工艺上我做了一些优化。”
李观半真半假地说道，他確实是查了，也確实有人发现这种物质具有一定的迁移率，但根本无法完成晶圆级单晶，只有微米级的小片，这就是数百倍的差距。
而李观从材料中获得的办法是让他自己长出来，在二维液面上限域生长。这简直就是从意识到水蒸气很热，到真正迈入蒸汽时代的巨大飞跃。
“什么材料的？”包仲文疑惑地问道，最近最火的就是石墨烯了，但它的特性决定了它不能成为晶片的材料，这孩子不会是想研究石墨烯吧？
“mos?场效应电晶体。”
“二硫化鉬？没听说过这种材料能当晶片的啊？你准备怎么製备？我好像就看过一两篇论文提到过，但我没记错的话，他的迁移率极限也就在四五百吧？”
迁移率是半导体物理中的一个核心参数，用来衡量电荷载流子的迁移能力。简单来说迁移率越高，电子在材料中就跑得越快越顺畅，反之亦然。
所以一个材料能不能当做晶片，这个是重要指標之一。当前使用的硅基材料迁移率的理论上限是不超过1000–1500 cm2/(v·s)。
而二维mos?电晶体的迁移率上限只有400cm2/(v·s)，这也是当前没有太多人去深入研究这种材料的原因。
但在製程方面，二维mos?的最大优势就显现了出来，其单层厚度仅约 0.65纳米，而目前最常用的硅基电晶体中最小单位的物理厚度却在5纳米以上。
这还是后世在不断逼近摩尔定律的极限，持续推进电晶体微缩后的成果。
而2010年的现在，即使最先进的实验室里的硅电晶体沟道厚度也在10nm以上，这就是数十倍的差距。
当然最重要的是，二维mos?电晶体的製备不需要先进位程的光刻机的参与，仅仅90nm的光刻机就够了。
“我准备试试，只需要一些硫和鉬就可以。”
“我全力支持你，一会儿你找赵宇，让他带你去取材料。”包仲文大手一挥，表示自己的態度。
他这么积极的主要原因还是希望在试验后，李观能留下来跟著他搞半导体，不要再回数院那个玄虚的地方了。殊不知，李观只是一个还没考上大学的高中生，就连沈建国都不能確定对方会跟著他去数院。
“谢谢包教授。”
说干就干，李观出了洁净区，跑去吃了个饭。不过他並不怎么饿，而且还不累，依然是精力满满。
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“好强大的活跃状態，不知道如果每天跑三公里不吃饭不睡觉会不会饿死，或者猝死啊？有点违反能量定律了吧？”
李观只是想想，也不敢真的尝试，毕竟命只有一条，作死就真的会死。
“李观？”
李观一扭头，看见是周雪妍和那名与她今天同时入组的新人，原来已经到了晚饭的时间，这实验一做就是六七个小时，没个强大的体魄还真不行。要是没“活跃状態”，他怕是要昏倒在实验室里。
“周学姐。”
李观打了个招呼，继续埋头快速扒拉著自己的炒饭，他急切地要完成接下来的实验，否则拖到下周，还不知道下个月新的海克斯能不能在外地触发。
“你好，我是林常伟。”那名同行的人主动走上来跟李观打著招呼。
“哦哦，你好，我是李观。”李观依然快速地扒著炒饭。
“请问你是私下认识包仲文教授吗？我听周同学说你也是今天刚进组。但显而易见教授非常青睞你，是有什么诀窍吗？”
林常伟丝毫没有掩饰自己的不满，或者说是怨念。
同是一天进组，对方却能一上来就进实验室独立做实验，而自己却搁那背了一天的条例规范，这怎么都解释不通。
李观听见这话抬头看了眼林常伟，觉得这孩子脑子多少有点大病。
不过后世开画室的时候確实也见过不少这样的家长，有一上来就问自家孩子到时候考不上央美能不能退费的，这都还算轻量级的。
还有些上来就不愿意交钱，非说自家孩子是天才，说到时候能给画室打gg，是画室赚了的。
李观只能表示脑迴路清奇，请不起这尊大神。
“不认识，靠脑子。”李观依然快速地扒饭。
“我吃完了，我先回实验室了。”
不待对方继续说些什么，李观立刻站起来告辞。
这种人看起来傻，其实最精了，到时候他什么也没学会就该怨老师怨同学怨学校，一点也不內耗。
还是远离他为好，这黑锅他可不想背。
看著李观快步离开的背影，林常伟正想扭头跟周雪妍抱怨几句，却发现她也不见了踪影，这波是英雄所见略同了。
李观回到了实验室，发现赵宇还没有回来，他索性坐在办公室里面，一边整理著实验思路一边等著他。
所有的步骤又在李观心中一一过了一遍，从最初的在cvd生长单晶薄膜，一直到最后的光刻机光刻电极，一步不落的在他心中“实操”了一遍。
而在这之中，最难的无疑是用ald沉积顶柵介质，实验室中的那台设备还是今年刚引进的，连老包使用都不怎么熟练。
包仲文看著李观说道，心中泛起异样的情绪，这么好的苗子搞数学可惜了。
“老沈跟我说了是你强烈要求过来进我的课题组的，我能问问是什么原因吗？”
包仲文见李观有些犹豫，接著说道：“你跟老沈那个搞理论的说不清楚，你跟我说，我全力给你提供帮助。”
听到这，李观心中终於做好了决定。
不要看李观轻轻鬆鬆就进了包仲文的课题组，其实他的课题组的保密级別是相当高的，虽然技术暂时还落后於世界。
並且就算mos?电晶体研发出来，也还需要专业的人士不断地推进，不断地叠代技术使之能一直保持世界领先地位，这样才能完成真正的崛起。
全靠自己一人，怕真是智商欠费了。
“我想试著做一种新的电晶体，之前是在外国期刊上看到的，直觉告诉我它很有潜力，当然在製备工艺上我做了一些优化。”
李观半真半假地说道，他確实是查了，也確实有人发现这种物质具有一定的迁移率，但根本无法完成晶圆级单晶，只有微米级的小片，这就是数百倍的差距。
而李观从材料中获得的办法是让他自己长出来，在二维液面上限域生长。这简直就是从意识到水蒸气很热，到真正迈入蒸汽时代的巨大飞跃。
“什么材料的？”包仲文疑惑地问道，最近最火的就是石墨烯了，但它的特性决定了它不能成为晶片的材料，这孩子不会是想研究石墨烯吧？
“mos?场效应电晶体。”
“二硫化鉬？没听说过这种材料能当晶片的啊？你准备怎么製备？我好像就看过一两篇论文提到过，但我没记错的话，他的迁移率极限也就在四五百吧？”
迁移率是半导体物理中的一个核心参数，用来衡量电荷载流子的迁移能力。简单来说迁移率越高，电子在材料中就跑得越快越顺畅，反之亦然。
所以一个材料能不能当做晶片，这个是重要指標之一。当前使用的硅基材料迁移率的理论上限是不超过1000–1500 cm2/(v·s)。
而二维mos?电晶体的迁移率上限只有400cm2/(v·s)，这也是当前没有太多人去深入研究这种材料的原因。
但在製程方面，二维mos?的最大优势就显现了出来，其单层厚度仅约 0.65纳米，而目前最常用的硅基电晶体中最小单位的物理厚度却在5纳米以上。
这还是后世在不断逼近摩尔定律的极限，持续推进电晶体微缩后的成果。
而2010年的现在，即使最先进的实验室里的硅电晶体沟道厚度也在10nm以上，这就是数十倍的差距。
当然最重要的是，二维mos?电晶体的製备不需要先进位程的光刻机的参与，仅仅90nm的光刻机就够了。
“我准备试试，只需要一些硫和鉬就可以。”
“我全力支持你，一会儿你找赵宇，让他带你去取材料。”包仲文大手一挥，表示自己的態度。
他这么积极的主要原因还是希望在试验后，李观能留下来跟著他搞半导体，不要再回数院那个玄虚的地方了。殊不知，李观只是一个还没考上大学的高中生，就连沈建国都不能確定对方会跟著他去数院。
“谢谢包教授。”
说干就干，李观出了洁净区，跑去吃了个饭。不过他並不怎么饿，而且还不累，依然是精力满满。
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“好强大的活跃状態，不知道如果每天跑三公里不吃饭不睡觉会不会饿死，或者猝死啊？有点违反能量定律了吧？”
李观只是想想，也不敢真的尝试，毕竟命只有一条，作死就真的会死。
“李观？”
李观一扭头，看见是周雪妍和那名与她今天同时入组的新人，原来已经到了晚饭的时间，这实验一做就是六七个小时，没个强大的体魄还真不行。要是没“活跃状態”，他怕是要昏倒在实验室里。
“周学姐。”
李观打了个招呼，继续埋头快速扒拉著自己的炒饭，他急切地要完成接下来的实验，否则拖到下周，还不知道下个月新的海克斯能不能在外地触发。
“你好，我是林常伟。”那名同行的人主动走上来跟李观打著招呼。
“哦哦，你好，我是李观。”李观依然快速地扒著炒饭。
“请问你是私下认识包仲文教授吗？我听周同学说你也是今天刚进组。但显而易见教授非常青睞你，是有什么诀窍吗？”
林常伟丝毫没有掩饰自己的不满，或者说是怨念。
同是一天进组，对方却能一上来就进实验室独立做实验，而自己却搁那背了一天的条例规范，这怎么都解释不通。
李观听见这话抬头看了眼林常伟，觉得这孩子脑子多少有点大病。
不过后世开画室的时候確实也见过不少这样的家长，有一上来就问自家孩子到时候考不上央美能不能退费的，这都还算轻量级的。
还有些上来就不愿意交钱，非说自家孩子是天才，说到时候能给画室打gg，是画室赚了的。
李观只能表示脑迴路清奇，请不起这尊大神。
“不认识，靠脑子。”李观依然快速地扒饭。
“我吃完了，我先回实验室了。”
不待对方继续说些什么，李观立刻站起来告辞。
这种人看起来傻，其实最精了，到时候他什么也没学会就该怨老师怨同学怨学校，一点也不內耗。
还是远离他为好，这黑锅他可不想背。
看著李观快步离开的背影，林常伟正想扭头跟周雪妍抱怨几句，却发现她也不见了踪影，这波是英雄所见略同了。
李观回到了实验室，发现赵宇还没有回来，他索性坐在办公室里面，一边整理著实验思路一边等著他。
所有的步骤又在李观心中一一过了一遍，从最初的在cvd生长单晶薄膜，一直到最后的光刻机光刻电极，一步不落的在他心中“实操”了一遍。
而在这之中，最难的无疑是用ald沉积顶柵介质，实验室中的那台设备还是今年刚引进的，连老包使用都不怎么熟练。